在7納米及更先進的半導體制程中，超純水（UPW）的純度直接影響到芯片良率和性能。其處理工藝需通過多級精密步驟去除各類雜質，確保水質達到近乎理論極限的純凈度。

首先，超純水在半導體制造中的重要性。7納米工藝節(jié)點對雜質極為敏感，任何微小的污染物都可能導致芯片缺陷，因此超純水的純度必須非常高，比如電阻率接近18.2 MΩ·cm，顆粒、離子、有機物、微生物等都要控制在極低水平。

其次，處理工藝的步驟。通常包括預處理、反滲透、離子交換、膜脫氣、紫外線殺菌、終端過濾等。每個步驟的作用都不相同，比如預處理去除大顆粒和有機物，反滲透去除大部分離子，離子交換進一步去除殘留離子，膜脫氣去除溶解氣體，紫外線殺菌和分解有機物，最后終端過濾確保顆粒達標。

然后，制造過程中的關鍵技術。比如多級反滲透系統(tǒng)、EDI電去離子技術、超濾膜的應用、高級氧化工藝等。這些技術如何協(xié)同工作，確保水質符合要求。需要強調各步驟的順序和必要性，比如預處理不好會影響后續(xù)反滲透膜的性能，必須嚴格控制每個環(huán)節(jié)的參數。

還要考慮系統(tǒng)設計和監(jiān)測。比如循環(huán)系統(tǒng)防止二次污染，實時監(jiān)測TOC、電阻率、顆粒數等指標。自動控制系統(tǒng)的重要性，確保穩(wěn)定運行。可能還需要冗余設計，比如多級過濾和備用模塊，保證連續(xù)供水。

另外，可能遇到的問題和解決方案。例如，微生物控制需要紫外線和臭氧處理，顆粒物控制需要終端超濾。離子殘留需要混床離子交換樹脂。同時，水源的質量波動如何影響處理工藝，預處理階段如何調整。

一、超純水的關鍵指標（7nm工藝要求）

1. 電阻率：≥18.2 MΩ·cm（25℃）

2. 總有機碳（TOC）：<1 ppb（μg/L）

3. 顆粒物：≤5顆/mL（粒徑≥0.05 μm）

4. 溶解氧（DO）：<1 ppb

5. 微生物：<0.1 CFU/mL

6. 金屬離子（如Na?、Fe³?等）：<0.01 ppb

二、超純水處理工藝流程

1. 預處理階段：去除原水中的大顆粒和有機物

• 多介質過濾：通過砂濾、活性炭吸附去除懸浮物、膠體及部分有機物。

• 軟化處理：離子交換樹脂去除Ca²?、Mg²?，防止后續(xù)反滲透膜結垢。

• 精密過濾：1~5 μm濾芯攔截微小顆粒，保護反滲透膜。

2. 反滲透（RO）系統(tǒng)：去除90%~99%的離子和有機物

• 兩級RO設計：

  • 一級RO膜去除大部分溶解鹽和有機物；

  • 二級RO進一步提純，產水導電度<10 μS/cm。

• 優(yōu)化參數：高壓泵壓力（10~15 bar）、回收率（75%~85%）、pH調節(jié)（防膜污染）。

3. 電去離子（EDI）：深度脫鹽

• 原理：結合離子交換樹脂和電場驅動，連續(xù)再生樹脂，無需化學再生。

• 產水電阻率：15~17 MΩ·cm，殘留離子濃度<1 ppb。

4. 脫氣膜（Membrane Degasification）

• 中空纖維膜組件：利用真空抽吸去除溶解的CO?、O?等氣體，防止氧化和TOC升高。

• 溶解氧控制：脫氣后DO可降至1 ppb以下。

5. 紫外光催化氧化（UV/TOC）

• 185nm紫外燈：激發(fā)水生成羥基自由基（·OH），分解痕量TOC為CO?和H?O。

• 臭氧協(xié)同：增強有機物氧化效率，TOC穩(wěn)定<1 ppb。

6. 終端精處理（Polishing）

• 超濾（UF）：0.01~0.1 μm孔徑膜截留納米顆粒，確保顆粒數達標。

• 混床離子交換（MBP）：使用核級樹脂進一步去除殘留離子，電阻率提升至18.2 MΩ·cm。

• 終端過濾：0.04 μm膜過濾，阻斷微生物和超細顆粒。

三、系統(tǒng)設計與關鍵技術創(chuàng)新

1. 全封閉循環(huán)系統(tǒng)：避免空氣接觸導致的二次污染，管路采用316L不銹鋼或PVDF材質。

2. 在線監(jiān)測與反饋控制：

   • 實時檢測電阻率、TOC、顆粒計數、微生物等參數；

   • 自動觸發(fā)清洗或切換備用模塊（如EDI故障時啟用拋光混床）。

3. 低溶出材料：所有接觸水的部件需通過SEMI F57認證，防止材料溶出污染物。

4. 零死水設計：保持系統(tǒng)內水流持續(xù)湍流，避免微生物滋生。

四、挑戰(zhàn)與解決方案

• 微生物控制：

  • 采用254nm紫外殺菌+臭氧抑制生物膜；

  • 周期性熱水消毒（80~85℃）或化學清洗（H?O?）。

• 硅酸鹽去除：

  • 優(yōu)化RO膜選擇（高截留率聚酰胺膜）和EDI電流密度，防止硅沉積。

• 硼（B）和鋰（Li）去除：

  • 特種樹脂（如硼選擇性樹脂）或調整RO膜pH至堿性增強截留率。

五、典型案例參數

通過上述精密工藝，超純水系統(tǒng)可為7nm制程的光刻、蝕刻、清洗等關鍵步驟提供可靠保障，確保芯片制造的缺陷率降至zui低。